New high repeatability wafer geometry measurement technique for full 200mm and 300mm blank wafers

  1. Trujillo-Sevilla, J.M.
  2. Pérez-García, Á.
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  6. Oliva-García, R.
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  8. Martín-Hernández, J.
  9. Roqué-Velasco, A.
  10. Rodríguez-Ramos, J.M.
  11. Gaudestad, J.O.
Actas:
Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering

ISSN: 1996-756X 0277-786X

ISBN: 9781510648876

Año de publicación: 2022

Volumen: 12008

Tipo: Aportación congreso

DOI: 10.1117/12.2607315 GOOGLE SCHOLAR