Influence of the epitaxial composition on N-face GaN KOH etch kinetics determined by ICP-OES
- Tautz, M.
- Kuchenbrod, M.T.
- Hertkorn, J.
- Weinberger, R.
- Welzel, M.
- Pfitzner, A.
- Díaz, D.D.
Revista:
Beilstein Journal of Nanotechnology
ISSN: 2190-4286
Año de publicación: 2020
Volumen: 11
Páginas: 41-50
Tipo: Artículo