Interdiffusion effects in the band offset modification by intralayer deposition at semiconductor homojunctions
ISSN: 0921-4526
Any de publicació: 1993
Volum: 185
Número: 1-4
Pàgines: 546-550
Tipus: Article
ISSN: 0921-4526
Any de publicació: 1993
Volum: 185
Número: 1-4
Pàgines: 546-550
Tipus: Article