Interdiffusion effects in the band offset modification by intralayer deposition at semiconductor homojunctions
ISSN: 0921-4526
Ano de publicación: 1993
Volume: 185
Número: 1-4
Páxinas: 546-550
Tipo: Artigo
ISSN: 0921-4526
Ano de publicación: 1993
Volume: 185
Número: 1-4
Páxinas: 546-550
Tipo: Artigo