Interdiffusion effects in the band offset modification by intralayer deposition at semiconductor homojunctions
ISSN: 0921-4526
Año de publicación: 1993
Volumen: 185
Número: 1-4
Páginas: 546-550
Tipo: Artículo
ISSN: 0921-4526
Año de publicación: 1993
Volumen: 185
Número: 1-4
Páginas: 546-550
Tipo: Artículo