Anisotropic textured silicon obtained by stain-etching at low etching rates

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  2. Guerrero-Lemus, R.
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  4. Hernández-Rodríguez, C.
  5. Ben-Hander, F.A.
  6. Martiánez-Duart, J.M.
Zeitschrift:
Journal of Physics D: Applied Physics

ISSN: 1361-6463,  0022-3727

Datum der Publikation: 2006

Ausgabe: 39

Nummer: 4

Seiten: 631-634

Art: Artikel

DOI: 10.1088/0022-3727/39/4/006 GOOGLE SCHOLAR
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